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Portada » Grupo Oesía y la Universidad Politécnica de Madrid crean una cátedra sobre talento e innovación tecnológica
Defensa

Grupo Oesía y la Universidad Politécnica de Madrid crean una cátedra sobre talento e innovación tecnológica

Con la creación de esta Cátedra, Grupo Oesía refuerza su compromiso con la innovación, impulsando el aprendizaje continuo y la investigación en tecnologías disruptivas
18 de June de 2024

Grupo Oesía, líder en ingeniería tecnológica y digital, ha presentado una cátedra sobre «Talento e Innovación Tecnológica» junto a la Universidad Politécnica de Madrid (UPM). El acto de presentación de esta iniciativa ha tenido lugar en el Rectorado de la UPM con la presencia de Guillermo Cisneros, rector de la Universidad Politécnica de Madrid, Agustín Yagüe, director de la Escuela Técnica Superior de Ingeniería de Sistemas Informáticos, Luis Furnells, presidente ejecutivo de Grupo Oesía, y Eva Cornide, directora de Talento y Cultura Corporativos del Grupo.

La creación de esta cátedra representa un importante hito para Grupo Oesía porque fortalece así su posición como entidad clave en la promoción del talento joven. La cátedra se impartirá en la Escuela Técnica Superior de Ingeniería de Sistemas Informáticos de la UPM.

Esta cátedra sobre Talento e Innovación Tecnológica tiene como objetivo principal colaborar en la generación de conocimiento, la docencia y transferencia de conocimiento en tecnologías disruptivas clave, como aviónica y comunicaciones satelitales, entre otras. Además, como parte de la misma, se otorgarán becas a los mejores expedientes académicos y se trabajará para promover la excelencia y la hiperespecialización en el ámbito tecnológico.

La participación de Grupo Oesía dentro de la Cátedra se centrará, entre otros aspectos, en el Máster Universitario en Software de Sistemas Distribuidos y Empotrados de la UPM, donde se analizarán los contenidos y se complementarán con aspectos específicos de interés para el negocio industrial.

Entre las actividades de formación planificadas se incluyen la cooperación en el desarrollo de programas de formación en temas relevantes para profesionales y estudiantes de grado y postgrado de la UPM, organización de actividades académicas complementarias, patrocinio de estudios mediante la concesión de becas y apoyo a tesis doctorales y proyectos fin de grado/máster, así como premios a trabajos técnicos, realización de conferencias, talleres, seminarios técnicos y encuentros de expertos, entre otras.

Compromiso con el aprendizaje continuo e innovador

Gracias a este acuerdo estratégico con la UPM, Grupo Oesía reafirma su propósito de liderar el camino hacia un futuro donde la tecnología responda a los desafíos del planeta y sus habitantes.

“Esta colaboración que firmamos hoy con la UPM está firmemente alineada con nuestro propósito como compañía de crear un mundo mejor, más eficiente, seguro y sostenible, ya que supone un paso más en nuestro camino por impulsar la excelencia y el avance tecnológico en nuestro país”, declaraba Luis Furnells, presidente ejecutivo de Grupo Oesía. “Con la creación de esta Cátedra estamos estableciendo un puente vital entre el mundo académico y empresarial, imprescindible para el desarrollo tecnológico y para garantizar el mejor talento, tan necesarios para España en estos momentos marcados por la transformación digital y la revolución tecnológica en todos los ámbitos de la sociedad”.

Por su parte, Guillermo Cisneros Pérez, rector de la UPM, ha declarado: “Con la firma de esta Cátedra universidad-empresa se llega a la máxima expresión de la colaboración que, desde hace muchos años, se lleva realizado entre la Universidad Politécnica de Madrid y Grupo Oesía. La cátedra sobre «Talento e Innovación Tecnológica» permitirá a los estudiantes poner en valor los conocimientos adquiridos en diferentes titulaciones de la UPM, así como, al personal docente e investigador, seguir desarrollando sus actividades de investigación en colaboración con Grupo Oesía, importante multinacional española en el marco de la ingeniería tecnológica y digital”.

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